ЭУФ Лабс

108841, Москва, Троицк, ул. Промышленная, д. 2Б

Год основания: 2011

Заявитель: ООО «РнД ИСАН»

Инвесторы и партнеры проекта: ООО «РнД ИСАН», НП «ЦТТ РАН и РОСНАНО»

Компания разрабатывает, в частности, источники экстремального ультрафиолетового излучения. Такие источники встраиваются в литографическое оборудование нидерландской компании ASML — крупнейшего в мире поставщика для микроэлектронной промышленности.